本书全面地介绍了与薄膜制备技术相关的各种基础知识,涉及薄膜制备系统、典型的物理制膜与化学制膜方法、薄膜加工方法,以及常用的薄膜性能表征技术,同时紧密结合当前薄膜领域最先进的技术、方法和装置进行阐述。书的内容广泛,由浅入深,对于初步接触这一领域的人员而言是一本较好的入门教材。
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书名 | 薄膜制备技术基础(原著第4版) |
分类 | 科学技术-工业科技-化学工业 |
作者 | (日)麻蒔立男 |
出版社 | 化学工业出版社 |
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介绍 |
编辑推荐 本书全面地介绍了与薄膜制备技术相关的各种基础知识,涉及薄膜制备系统、典型的物理制膜与化学制膜方法、薄膜加工方法,以及常用的薄膜性能表征技术,同时紧密结合当前薄膜领域最先进的技术、方法和装置进行阐述。书的内容广泛,由浅入深,对于初步接触这一领域的人员而言是一本较好的入门教材。 内容推荐 本书较为系统、全面地介绍了与薄膜制备技术相关的各种基础知识,涉及了薄膜制备系统、典型的物理制膜与化学制膜方法、薄膜加工方法,以及常用的薄膜性能表征技术,同时紧密结合当前薄膜领域最先进的技术、方法和装置。 原外版书作者长期在薄膜科学与技术领域从事研究、开发和教育工作,有丰富的工作经验与广博的专业知识。本书自初版以来,已有三十余年,迄今已4次再版,反映了本书在这一领域具有较为深远的影响。 本书的内容丰富,由浅入深,对于材料科学、微电子专业学生而言是一本良好的基础教材;对于在这一领域学习、工作的人员而言,具有很好的参考价值。 目录 第1章 薄膜技术 1.1 生物计算(bio-computing)和薄膜技术 1.2 医用微型机械 1.3 人工脑的实现(μ-Electronics) 1.4 大型显示的实现 1.5 原子操控 1.6 薄膜技术概略 参考文献 第2章 真空的基础 2.1 真空的定义 2.2 真空的单位 2.3气 体的性质 2.3.1 平均速率Va 2.3.2 分子直径δ 2.3.3 平均自由程L 2.3.4 碰撞频率Z 2.4 气体的流动和流导 2.4.1 孔的流导 2.4.2 长管的流导(L/a≥100) 2.4.3 短管的流导 2.4.4 流导的合成 2.5 蒸发速率 参考文献 第3章 真空泵和真空测量 第4章 真空系统 第5章 薄膜基础 第6章 薄膜的制备方法 第7章 基板 第8章 蒸镀法 第9章 溅射 第10章 气相沉积CVD和热氧化氮化 第11章 刻蚀 第12章 精密电镀 第13章 平坦化技术 |
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