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书名 薄膜制备技术基础(原著第4版)
分类 科学技术-工业科技-化学工业
作者 (日)麻蒔立男
出版社 化学工业出版社
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介绍
编辑推荐

本书全面地介绍了与薄膜制备技术相关的各种基础知识,涉及薄膜制备系统、典型的物理制膜与化学制膜方法、薄膜加工方法,以及常用的薄膜性能表征技术,同时紧密结合当前薄膜领域最先进的技术、方法和装置进行阐述。书的内容广泛,由浅入深,对于初步接触这一领域的人员而言是一本较好的入门教材。

内容推荐

本书较为系统、全面地介绍了与薄膜制备技术相关的各种基础知识,涉及了薄膜制备系统、典型的物理制膜与化学制膜方法、薄膜加工方法,以及常用的薄膜性能表征技术,同时紧密结合当前薄膜领域最先进的技术、方法和装置。

原外版书作者长期在薄膜科学与技术领域从事研究、开发和教育工作,有丰富的工作经验与广博的专业知识。本书自初版以来,已有三十余年,迄今已4次再版,反映了本书在这一领域具有较为深远的影响。

本书的内容丰富,由浅入深,对于材料科学、微电子专业学生而言是一本良好的基础教材;对于在这一领域学习、工作的人员而言,具有很好的参考价值。

目录

第1章 薄膜技术

 1.1 生物计算(bio-computing)和薄膜技术

 1.2 医用微型机械

 1.3 人工脑的实现(μ-Electronics)

 1.4 大型显示的实现

 1.5 原子操控

 1.6 薄膜技术概略

 参考文献

第2章 真空的基础

 2.1 真空的定义

 2.2 真空的单位

 2.3气 体的性质

2.3.1 平均速率Va

2.3.2 分子直径δ

2.3.3 平均自由程L

2.3.4 碰撞频率Z

 2.4 气体的流动和流导

2.4.1 孔的流导

2.4.2 长管的流导(L/a≥100)

2.4.3 短管的流导

2.4.4 流导的合成

 2.5 蒸发速率

 参考文献

第3章 真空泵和真空测量

第4章 真空系统

第5章 薄膜基础

第6章 薄膜的制备方法

第7章 基板

第8章 蒸镀法

第9章 溅射

第10章 气相沉积CVD和热氧化氮化

第11章 刻蚀

第12章 精密电镀

第13章 平坦化技术

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