本书系统总结了世界半导体硅材料的发展历史、研究现状,并指出了今后的发展方向。主要内容包括:半导体硅及硅基材料、多晶硅和光伏技术、硅外延和薄膜、硅掺杂、器件、化合物半导体、晶格缺陷、杂质影响等多方面的内容,并涉及量子计算机、碳纳米管在微电子中的应用、情境智能系统、大脑半导体等。
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书名 | 硅技术的发展和未来 |
分类 | 科学技术-工业科技-化学工业 |
作者 | (法)P.希弗特//(德)E.克瑞梅尔 |
出版社 | 冶金工业出版社 |
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介绍 |
编辑推荐 本书系统总结了世界半导体硅材料的发展历史、研究现状,并指出了今后的发展方向。主要内容包括:半导体硅及硅基材料、多晶硅和光伏技术、硅外延和薄膜、硅掺杂、器件、化合物半导体、晶格缺陷、杂质影响等多方面的内容,并涉及量子计算机、碳纳米管在微电子中的应用、情境智能系统、大脑半导体等。 内容推荐 本书涵盖了半导体硅及硅基材料、多晶硅和光伏技术、硅外延和薄膜、硅掺杂、器件、化合物半导体、晶格缺陷、杂质影响等多方面的内容,并涉及量子计算机、碳纳米管在微电子中的应用、情境智能系统、大脑半导体等诸多新概念;系统总结了世界半导体硅材料的发展历史、研究现状,并指出了今后的发展方向。其内容广泛,数据详实,可作为高等院校、科研院所和相关单位从事半导体材料学习、科研和开发人员的参考用书。 目录 1 导论:各种形式的硅 1.1 引言 1.2 从20世纪60年代到70年代初:能带 1.3 20世纪70年代:应用于硅的表面理论 1.4 20世纪80年代:硅的结构能 1.5 20世纪90年代:硅团簇与量子点的结构和电子性质 1.6 未来展望 参考文献 第一部分 半导体体硅晶体 …… 第二部分 多晶硅 第三部分 外延、薄膜和多孔层 第四部分 晶格缺陷 第五部分 硅掺杂 第六部分 某些杂志的作用 第七部分 器件 第八部分 对硅的补充:化合物半导体 第九部分 新的研究领域 List of Contributors |
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